核心参数溅射气体 空气或氩气样品台尺寸 Φ40mm控制方式 手动样品仓尺寸 Φ108mm,**度135mm;靶材尺寸 57mm靶材材质 金靶此款小型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合SEM 制样**备的仪器。设备配有微量充气阀调节工作真空，在 20Pa 真空保护。同时，配有专用进气口和微量充气调节装置，以方便空气或氩气等工作气体充入。详细

核心参数溅射气体： 氩气，氮气等多种气体样品台尺寸: 50mm控制方式: 手动样品仓尺寸直径: 150mm，**120mm靶材尺寸: 50*0.1靶材材质： 金（标配），银，铂等SD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适； 特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大； 前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体； 调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好； **压详细

150T Plus为紧凑的分子涡轮泵镀膜系统，适合SEM、TEM及许多薄膜应用。 150T Plus 集成了溅射和碳蒸镀两种沉积镀膜功能的**分辨镀膜系统 新款改进 ● 触摸屏更换成便于操作的电容触摸屏 ● 固件更新，新版操作界面类似安卓系统，便于客户上手 ● 新的彩色LED可视状态指示灯 ● 双核ARM处理器，可快速响应 ● USB接口可以用于固件更新，并可将镀膜方案文件备份/复制到USB存储设备 ● 可以通过USB端口以.csv格式导出过程日志文件，以便统计分析 主要特点: ● 金属溅射或碳蒸发**体化设计，节省空间 ● 适合FE-SEM制样的精细镀膜和薄膜应用 ● 涡轮分子泵**真空系统，适合不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材 ● 全自动触摸屏控制，快速数据输入，操作简单 ● 可储存多个客户自定义镀膜方案：对多用户实验室**理想 ● 预编程自动真空控制 ● 使用膜厚监控选件精确控制膜厚 ● 智能系统识别，自动感知用户所插入镀膜头的类型 ● **真空碳蒸镀，对SEM和TEM镀碳膜应用**理想 ● 先进的碳棒蒸镀枪设计和电流控制**，操作简单，重现性好 ● Drop-in式快速换样品台（标配旋转台） ● 真空闭锁功能，让工作腔室在待机使用时亦处于真空状态 ● 不破坏真空条件下的溅射时间可长达60分钟，适合材料科研应用 ● 人体工程学设计，整体成型机壳，维护、拆装容易 **参数: ● 工作腔室：165mm外径 x 127mm** ● 触摸屏全图像用户界面 ● 靶材：标配直径57mm x 厚0.3mm Cr靶 ● 样品台：标配旋转台，直径60mm，转速8-20 rpm ，可选配旋转倾斜台。 ● 真空系统： 涡轮分子泵：带有空气冷却的涡轮分子泵 旋转机械泵：双程旋转机械泵 ● 极限真空度：5 x 10-5mbar ● 溅射真空度： 5 x 10-3 到 5 x 10-1mbar之间 ● 溅射电流：0-150mA；可预设膜厚或使用内置定时器（选配） ● 溅射时间：**长60分钟 ● 碳蒸发：稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发，确保碳棒可重复蒸碳，电流脉冲1~90A。 ● 尺寸和重量：仪器机箱585mm宽x 470mm长 x 410mm** (总**: 650mm)详细

进口品牌**性能旋片泵产生**个洁净的<1 Pa的真空压强，通常抽真空时间小于3-5分钟。采用**品质恒功率磁控溅射电源，确保恒定沉积速率。磁控阴极的使用也有效减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤。特别适用于追求更**分辨率SEM 扫描电镜样品的喷金用途。触摸屏控制，即插即用。 选配原位离子清洗模块，实现SEM样品碳氢污染（有机物积碳污染）清洗，样品表面活化和亲水化。详细

SD-900 型离子溅射仪外观亮丽，做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜速度快，质量好；功能控制和定时皆由CPU调度，使用范围广。 工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体，获得**镀膜效果。 SD-900型是**款**常用的离子溅射仪，是**切溅射仪的基础。是以金属靶材和样品台分别作为阴阳两极，在真空状态下产生辉光放电，使金原子与残存的气体不断碰撞而沉积成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。 具有成膜均匀，操作简单，所需时间短，过程可控等优点。 配有**位定性真空泵 参数： 主机规格：300mm×360mm×380mm（W×D×H） 靶（上部电极）：50mm×0.1mm（D×H） 靶材：Au（标配）也可根据实际情况配备银靶、铂靶等。 样品室：硼硅酸盐玻璃160mm×120mm（D×H） 样品台尺寸：可安装直径50mm和直径70mm的样品台，也可根据自身要求定制样品台 靶材尺寸：Ф50mm 真空指示表： **真空度：≤ 4X10-2 mbar 离子电流表： **电流：50mA 定时器： **长时间：0-360S 微型真空气阀：可连接φ3mm软管 可通入气体： 多种 **电压： -1600 DCV 机械泵：标准配置2L/S（**产VRD-8） 输入电压：220V(可做110V),50HZ 特点： 1、简单、经济、可靠、外观精美。 2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。 3、SETPLASMA手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不**要的损伤。 4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。 5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、钯等），以达到更细颗粒的涂层。 6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。 需要镀膜的样品 1、电子束敏感的样品: 主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较**能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚**整个样品结构。这种情况下，用**种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤； 2、非导电的样品: 由于样品不导电，其表 面带有“电子陷阱”， 这种表面上的电子积累 被称为“充电”。为了 消除荷电效应，可在样 品表面镀**层金属导电 层，镀层作为**个导电 通道，将充电电子从材 料表面转移走，消除荷 电效应。在扫描电镜成 像时，溅射材料增加信 噪比，从而获得更好的成像质量。 3、新材料:非导电材料和半导体材料详细

核心参数 溅射气体Ar,N2或O2样品台尺寸50mm控制方式手动样品仓尺寸直径250mm***150mm靶材尺寸50mm靶材材质Au,Ag,Cu,Ti,Cr,Pt,Pd,C,W靶等仪器种类**产离子溅射仪详细

仪器简介： 本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀膜导电膜(金膜),仪器操作简单方便, 是配合中小型扫描电子显微镜制样**备的仪器。 **参数： 1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm　纯度：99.999% 2、真空室：直径：160mm，**：110mm 3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm 4．工作真空： 2×10-1—10-1 mbar 5.离子电流表：**电流：50mA 6.计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。 7.**电压：-1600DVC 8.机械泵:2升/每秒 9.工作室工作媒介气体：空气或氩气， 10．真空气阀： 配有氩气专用进气口和微量充气调节，可连接φ4*2.5mm软管。 主要特点： 轻便、溅射面积大 靶材可按用户要求加工制作详细

仪器简介： 本仪器主要适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜），仪器操作简单方便，是配合中小型扫描电子显微镜制样**备的仪器。 **指标：  玻璃处理室：∮100毫米，**度130毫米  试样台尺寸：∮40毫米可同时放6个样品杯  金靶尺寸：∮58毫米  真空系统：直联旋片真空泵2升/秒  真空检测：皮氏计  真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真空  工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口和微量充气调节  可以溅射铁、钴、铒详细

108Auto是**款结构紧凑的离子溅射仪，特别适用于扫描电镜成像中非导电样品**质量镀膜。108auto离子溅射仪的样品室直径为120 mm，样品台的**度可以任意调节，同时还带有**效的直流磁控溅射头和独立的真空控制系统，能充分满足客户的多种需求。 主要特性 自动的换气与泄气功能，可以得到**致的膜厚，和zui佳的导电喷镀效果。 通过**效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。 操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。 在自动模式下，可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果， 通过使用MTM-20**分辨膜厚控制仪（选件）在达到设定膜厚时停止喷镀过程。 可用MTM-20**分辨膜厚控制仪（选件）手动停止喷镀过程。 数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到**致的镀膜速率和zui佳的镀膜效果。 可使用多种金属靶材：Au，Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶为标配），靶材更换快速方便。 **参数 样品室大小 直径120mmx 120mm **(4.75 x 4.75") 靶材 Au 靶为标配，Au:Pd, Pt, Pt:Pd （选件）;大小：直径57mmx 0.1mm厚 样品台 可以装载12个SEM样品座，**度可调范围为50mm 溅射控制 微处理器控制，安全互锁，可调，zui大电流40mA，程序化数字控制 溅射头 低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩 模拟计量 真空：Atm - 0.001mbar 厚度监控 (选件) 使用MTM-20**分辨厚度控制仪（选件）自动终止溅射过程，或使用MTM-10**分辨厚度监控仪（选件）手动终止溅射过程 控制方法 自动气体换气和泄气功能，自动处理排序，带有“暂停”控制的数字定时器（0－300s），自动放气 桌上系统 真空泵可置于抗震台上，全金属集成耦合系统详细

KAS-2000F的主要**参数： 重量：10 Kg 尺寸：420 mm (W)ｘ220 mm (D)ｘ230 mm (H)（长，宽，**） 靶材尺寸：50mm 样品室内径：100mm 靶材类型：Au/Pt（标配Au） 操作真空：0.1 Torr（托） **加速电压：3KV 离子电流: 0 ~ 9 mA详细

主要优势功能： 自动的换气与泄气功能，可以得到**致的膜厚，和**的导电喷镀效果。 通过**效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。 操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。 在自动模式下，可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果。 可配备MTM-10**分辨膜厚监控仪（选件）(分辨率优于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm) 数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到**致的镀膜速率和**的镀膜效果。 可使用多种金属靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd，靶材更换快速方便。 **规格： 样品仓尺寸： 120 x 120mm（**） (4.75 x 4.75")，**强度硼硅酸盐玻璃 样品台：直径63mm,可放置12个标准SEM样品座，**度可在 60mm内调节 溅镀优点：基于微处理器反馈控制，远程电流/电压感应；提供真空安全联锁装置，**180A，配有过流保护 溅射控制：微处理器控制，安全互锁，可调，**电流40mA，程序化数字控制 溅射头：低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩 模拟计量：真空 Atm - 0.01mb 电流: 0 - 200A 厚度监测器： MTM-10**精度厚度监测器(选配) 控制方式：自动气体换气和泄气功能，自动处理排序，带有“暂停”控制的数字定时器（0－300s），自动放气 电源：200-240 VAC, 50/60Hz 功率：1000VA (包括镀碳机和真空系统) 氩气： 纯度优于99.9%，压力调节0.5-0.6 bar, 6mm连接软管详细