产品类型：1. 紫外光刻胶（Photoresist）各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，**分辨率胶，LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上**微米。2. 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist）电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物， LIGA用胶等。电子束负胶：**分辨率电子详细

仪器简介：光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)原产**: 韩**，**能做到图形化蓝宝石衬底（PSS）光刻机，**性价比型号：KCMA-100；又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；ECOPIA为****的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技**域；该公司是目前**上**早将详细

规格:束流电压范围为: 20kV - 100kV光刻胶的特征尺寸:详细

产品介绍货号 包装 描述N20100.001E 1 Maxima Micro-Drill Handpiece, with 2.35mm Collet TPH-6501N20110.001E 1 Maxima Micro-Drill Controller, PS220N20120.001E 1 Maxima Micro-Drill Foot Rheostat, TPF-77N20130.001E 1 Handset Cradle, TRC-02N20140.002E 1 Spare Brushes, TPH65-164N20150.001E 1 Collet Wrench, TPH65-175N20160.001E 1 Chuck Joint Wrench, TPH65-176N20300.001E 1 2.35mm (3/32”) Collet Chuck, TPH65-117AN20310.001E 1 3.0mm Collet Chuck, TPH65-117BN20320.001E 1 3.175mm Collet Chuck, TPH详细

桌面型纳米压印机（CNI）作为**款紧凑型设计纳米压印系统，主要用于实现纳米/微米微观结构从模板到样品的复制。同时，CNI 在标准热纳米压印基础上，可升级紫外（UV）纳米压印功能。基于简洁的操作过程和直观的用户界面，CNI 无需专职**人员操作管理。任何压印腔室可容纳的模板均可使用。压印线宽**可达20nm。主要特点： -桌面型纳米压印设备：兼容热压印和UV紫详细

D纳米结构**速直写机 — —纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案NanoFrazor光刻**，衍生于IBM Research研发的热扫描探针光刻**——快速、精准地控制纳米针尖的移动及温度，利用热针尖实现对热敏抗刻蚀剂的快速精准刻写，从而为纳米制造提供了许多新颖的、独特的可能性。NanoFrazor Explore以极**的速度、精度和可靠性运行，在目前所有扫描探针光刻**中详细

Nanonex纳米压印系统NX-2500 产品特点： 1、 热塑化 2、 紫外固化 3、 热压与紫外压印同时进行 4、 热固化 5、气垫软压**(ACP) 6、Nanonex**** 7、 **的整片基板纳米压印 均匀性 8、**通量 9、低于10nm分辨率 10、亚1微米对准精度 11、快速工艺循环时间（小于60秒） 灵活性 12、4″, 6″, or 8″压印面积可选择各种尺寸及不规则形状模板与基板均可压印 13、方便用户操作 14、基于超过12年、15代产品开发经验的自动化压印操作，Nanonex压印系统经过大量实时实地验证，质量可靠，性能优越稳定 15、全自动纳米压印 规格参数： 1、热塑压印模块 温度范围0～250oC 加热速度>300oC/分钟 制冷速度>150oC/分钟 压力范围0 ～ 3.8 MPa（550 psi） 2、紫外固化模块 200W窄带紫外光源 365纳米或395纳米波长可选 全自动化控制 3、对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台 分场光学和CCD相机 4、模版装载功能 4″/5″/6″模版可用于标配纳米压印 5、系统 8”模板可升级 6、基板装载 标配纳米压印系统可装载4″基板 6″和8″基板可选 各种尺寸及不规则形状模板及基 7、板均可压印 独特**保护ACP**可限 8、度保护基板和模板，特别对于象磷化铟（InP）等极易碎模板和 基板给予限度保护。详细

QATM Qetch 1000(原德**ATM Kristall 680)是**款通过触屏界面直观操作的全自动电解抛光蚀刻。具有独立的抛光蚀刻单元和控制单元，并可以在通风橱中使用。无需知晓试样组织情况，通过扫描功能即可显示材料的电流-电压特征曲线。将电解液储存在1升体积的独立电解槽中进行封盖储存，工作时通过整体更换的方式来更换电解液，极大地方便了抛光蚀刻单元的操作。设备的清洁可以采用水，通过清洗程序完成。 优点 -自动电化学抛光/腐蚀装置 -带QATM软件的触屏操控 -可储存200个程序，并可设置密码 -实时显示电流和电压 -输出电压和过程持续时间可调 性能指标 连接电源 2 kVA 电压极值 90 V DC 电流极值 14 A 抛光时间 1 sec - 25 min 腐蚀时间 1 sec - 5 min 宽 x ** x 深 330 x 220 x 400mm 重量 ~ 7 kg详细