D纳米结构**速直写机

— —纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案

NanoFrazor光刻**，衍生于IBM Research研发的热扫描探针光刻**——快速、精准地控制纳米针尖的移动及温度，利用热针尖实现对热敏抗刻蚀剂的快速精准刻写，从而为纳米制造提供了许多新颖的、独特的可能性。

NanoFrazor Explore以极**的速度、精度和可靠性运行，在目前所有扫描探针光刻**中属于速度快、应用广泛的**种。

NanoFrazor Explore配备了先进的硬件和软件，以合适的方式控制可加热的NanoFrazor悬臂梁，以便进行书写和成像，实现基于闭环光刻**的各种**精度图案化工艺。2019年，Explore增配了激光直写模块，有效加快了特征线宽在微米或亚微米水平的图形的加工速度，成为纳米光刻与微米光刻兼顾的联合图形化工艺方案。由此，在针对同**抗刻蚀层的图案化工艺中，实现了纳米刻写与微米刻写的无缝衔接。从而可以根据不同的图案特征线宽，采用不同精度的刻写**，兼顾精度与速度。 

主要特点：

★  利用加热针尖直接刻写图案，分辨率优于15 nm；

★  利用激光热挥发实现图案化，分辨率优于1 μm；

★  **速原位AFM轮廓成像；

★  样品尺寸100×100 mm2；

★  闭环光刻；

★  灰度曝光，分辨率及精度达到2 nm；

★  利用原位AFM实现精准的对准，从而实现无掩膜套刻及写场拼接；

★  **的隔音及隔振性能；

★  无需洁净间，亦无特殊的实验室环境要求