CIF石墨烤胶机主要用于对金属敏感的样品，除具备PH18烤胶机产品特点外，更重要的是加热模块整体材质无任何金属附件，机箱整体采用石墨材质，表面PFA涂层，耐**温防腐蚀。加热面板采用陶瓷硅晶玻璃，防腐抗刮划，无污染。产品特点u 无任何金属附件。u 分体式设计，**实验人员安全，延长仪器使用寿命。u 机箱整体石墨材质，表面PFA涂层，耐**温防腐蚀。u 加热面板采详细

匀胶机2.pngCIF匀胶机转速稳定、启动迅速，旋涂均匀，操作简单，结构紧凑实用，为实验室提供了理想的解决方案。广泛应用于微电子、半导体、新能源、化工材料、生物材料、光学，硅片、载玻片，晶片，基片，ITO 导电玻璃等工艺制版表面涂覆等。产品特点u 采用闭环控制伺服电机，数字式增速信号反馈，速匀准确，寿命长，**匀胶均匀。u 5寸全彩触摸屏，智能程序化可编详细

详细介绍射频等离子体蚀刻机简介Quorum K1050X RF等离子桶式反应器设计用于等离子蚀刻，等离子灰化和等离子清洁应用。射频等离子体可对各种样品和基板进行低温修饰。等离子体蚀刻通常于半导体行业，因为Quorum K1050X可以用于使用反应气体（例如CF 4） 去除硅层，以及用于使用氧气去除光刻胶。等离子灰化是指使用氧气或空气对有机材料进行可控的低温去除，其广泛应用于研详细

产品简介：GSL1100X-PJF 等离子表面处理仪是**种紧凑的大气离子表面处理喷射系统，主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件下，迅速活化和清理材料表面。例如单晶片、光学元件、塑料等广泛的材料。 为了获得**质量的外延薄膜或者光学涂层，预先进行表面处理可以得到显著的效果。主要特点：操作简单、安全，**速处理物件表面；详细

等离子清洗机VP-R手动版产品特性1.BetterReliability，Better Operation内置**路通入气体，无需再搭配气体混合仪简易、智能化设计，避免误操作采用数字显示压力，实时观察腔体压力变化情况手动控制，人机界面友好清洗结束，旋钮泄压泄压时长和大小可调，可通入氮气泄压清洗功率**、中、低三挡可调2.对标****线品牌，填补****空白****，柔性电极输出13.56MHz频率用于详细

详细介绍EMS1050 低温灰化仪应用**域：l 生物芯片**域l 医用材料、光学材料研究l 电子半导体**域l **分子材料研究l 电化学、**端零部件处理l 有机材料的灰化、刻蚀仪器性能：l 自动调频**频发生器l 内置旋转真空泵l 此系统通常使用氧及氩的混合气体，氧去除有机物质（碳氢化合物），氩对样品表面进行刻蚀l 低温等离子灰化、刻蚀、清洗 (0-150 watts RF)l 真空监测.l 双重气流针详细

详细介绍--基于压电变压器直接放电，同时在元件的输出端直接产生冷等离子，等离子通过电离空气或气体来形成。性能特点◆ 专为敏感基材设计◆ 手持操作◆ **效激发冷等离子体◆ 直接放电，低输入电压、**输出电压◆ 等离子功率密度**◆ 产生温度详细

详细介绍大气等离子体系统PB3和PS2000机器人工业化设计中使用的wan美定制单元：10米线便可轻松集成**各种系统中的PS2000**压单元和PB3等离子体发生器。我们在电弧动态、流体力学和动力电子设备上的有着多年的制造经验。我们生产的这套大气等离子体系统从功率密度和功能上来说是独 ** 无 二的。在这套可被用于不同应用范围的等离子体单元的发展过程中，我们聚焦于更便捷详细

Femto Science等离子清洗机COVANCE产品特点及适用**域：1、可有效去除工作表面上的有机污染物，也可用于表面改性。“易于使用”，具有简单的结构，适用于各种等离子工艺，如清洁，增强亲水性和粘合性， 使表面疏水等。2、纳米生物科学与医疗仪器3、实验室芯片研究4、氨基等离子体嫁接5、葡萄糖传感器，蛋白质芯片...6、粘接PDMS，清洁眼镜7、亲水/疏水塑料8、微量血浆，酶详细

15180831302 **Femto Science等离子清洗枪 等离子清洗枪是**种全新的**科等离子表面处理仪，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果、或者进行表面改性及灭菌，还可以应用于伤口、组织器官、3D图案等。相对于等离子清洗机不仅使用广泛，而且具有小巧轻便、使用便捷、价格低廉的特点。**规格材料：塑料，金属（内部）电源：DC 5V(2A)容量：1800mAh充电时间：2h时长详细

PlasmaPro 80是**种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能够确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸，是科学研究、原型设计和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电极冷却和出色的衬底温度控制来实现**性能工艺。。直开式设计允许快速装卸晶圆。出色的刻蚀控制和速率测定。出色的晶圆温度均匀详细

产品功能介绍氩离子抛光系统是**个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类**广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄膜截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属详细

PCB等离子除胶机 Diener Tetra185接受不同规格舱体及工艺定制循环时间为15分钟和90分钟之间同时可以处理7块PCB板,处理**尺寸为510×610mm应用**域：- 除污杂材料- 聚酰亚胺箔加压前的蚀刻与活化，以便它能够提**粘接强度- 表面清洁- 金属表面粘接和焊接前的活化去除胶渣的材料类型：- FR4standard (for example Panasonic MC-100MS/EX)-Modified FR4 systems (for example Panasonic: R-1766 T,R-1566W, R-1755-C)-BT-s详细

德**diener等离子表面处理设备特点：等离子清洗机清洗效果好，效率**，应用范围广。对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。**效的特制电极，是产生均匀等离子体的**。特制电极和托盘结构，可充分利用真空舱体内部空间，使处理效率**化，同时也可**样品可得到全面有效的清洗。详细

Technische Daten PlasmaBeamMini1.外尺寸： B 350 mm, H 166 mm, T 300 mm, 重量. 10 kg2. 喷头直径.φ25 mm, L 150 mm, 重量. 0.5 kg,线缆 1.5 m3. 发生器：2,45 GHz/8 W4.反应气体：单路Ar5. 电源：单相100~240V，1.**详细

仪器简介：ESPion**朗缪尔探针（AdvancedLangmuirProbesforElectricalPlasmaCharacterisation）可快速、可靠、精确地进行等离子体诊断，是zuixianjin可靠的朗缪尔探针（LangmuirProbe）。**参数：应用：蚀刻/沉积/ 清洁等离子体脉冲等离子体操作离子密度 (Ni & Gi)电子温度(Te)电子能量分布(EEDF)电子密度(Ne)等离子体电位Debye 长度,悬浮电位主要特点：获得数据速度：每秒15次扫描，通过D-O-E-界面可详细

型号 ?等离子表面处理仪TS-PL10 外形尺寸 660Wx700Dx560H(mm) 腔体尺寸 200*200*270mm 腔体材质 316不锈钢 真空泵 ?干泵/油泵（可选） 等离子体发生器 40KHz 等离子体表面处理仪产品特点： ?进口316不锈钢材质，密封性**的真空腔体设计，军工级的**真空度真空腔体设计及制造工艺，并配置进口**真空泵运行。 原装进口电源：采用原装进口电源电路**，产生**密度等离子体，确保出众的清洗效果，40kHZ,功率0-600W连续调节,自动阻抗匹配。 独有放电**：特殊处理及特殊结构的放电装置，确保形成稳定均匀的等离子体。 **精度气体流量监测系统，两种工艺气体配置(氩气、氧气），双路气流控制，比例可调，采用**精度浮子流量计、美**世维洛克气体管路及阀件。 自主研发的低压(真空)等离子清洗机软件系统，性能稳定可靠，操作简单，便于维护，**效便捷。 强大的全面安全防护系统：温度安全防护功能，过载防护功能，短路断路报警防护功能，各种误操作保护功能。 等离子体表面处理仪原理： 等离子体是指电离气体，是电子、离子、原子、分子或自由基等粒子组成的集合体 。清洗时**能电子碰撞反应气体分子，使之离解或电离，利用产生的多种粒子轰击被清洗表面或与被清洗表面发生化学反应，从而有效地清除各种污染物；还可以改善材料本身的表面性能，如提**表面的润湿性能和改善膜的粘着力等，这在许多应用中都是**重要的。 等离子体表面处理仪具有以下明显优点： (1) 处理温度低, 处理时间短, 节约能耗, 可缩短工艺流程; (2) 处理过程中不使用酸碱等化工原料, 避免了**温潮湿的生产环境; (3) 处理深度仅为数**埃到几纳米, 不影响基体的固有性质; (4) 处理过程属于干法处理, 可大幅降低水资源消耗, 对节约水资源有重要的社会经济意义; (5) 处理过程中无三废排放, 既保护了环境, 又节约了企业的治污费用, 符合**的环保政策; (6) 可采用不同的气体介质进行处理, 对材料**终的表面化学结构和性质有较好的可控性。 经等离子体表面处理仪清洗后器件表面是燥的，不需要再处理，可以提**整个工艺流水线的处理效率；可以使操作者远离有害溶剂的伤害；等离子可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部完成清洗，因此不需要过多考虑被清洗物件的形状；还可以处理各种材质，尤其适合不耐热以及不耐溶剂的材质。详细

Harrick Plasma公司的等离子体表面处理仪是**种小型化、超清洗设备。 Harrick等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。 Harrick 等离子体表面处理仪外接**台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面。 Harrick 等离子体表面处理仪短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被等离子体表面处理仪的真空泵抽走，这款等离子体表面处理仪的清洗程度达到分子级。Harrick等离子体表面处理仪除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能：等离子体表面处理仪的等离子体作用于材料表面，使表面分子的化学键发生重组，形成新的表面特性。 Harrick 等离子体表面处理仪对某些有特殊用途的材料，在超清洗过程中等离子体表面处理仪的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和浸润性，并可消毒和杀菌。 Harrick 等离子体表面处理仪广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、**分子科学、生物医学、微观流体学等**域。 Harrick等离子体表面处理仪的应用范围： * 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。 * 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。 * 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。 * 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。 * 清洗半导体元件、印刷线路板。 * 清洗生物芯片、微流控芯片。 * 清洗沉积凝胶的基片。 * **分子材料表面修饰。 * 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。 * 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 等离子体表面处理仪的产品特征： * 紧凑的台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。 * 功率为低、中、**三档可调。 * 两种型号： 基本型：PDC-32G-2 清洗舱：长7英寸，直径3英寸；舱盖可拆卸。 整机尺寸：8英寸H×10英寸W×8英寸D 扩展型：PDC-002 清洗舱：长6英寸，直径6英寸；舱盖具备铰链和磁力锁，并有**个可视窗口。 整机尺寸：11英寸H×18英寸W×9英寸D Harrick等离子体表面处理仪除了PDC-32G-2 基础型和PDC-002 扩展型 两种常规机型的等离子清洗机以外，我们还提供以下配件选项： PDC-FMG-2 PlasmaFlo气流混合器（230伏） PDC-VP-2 豪华版的真空泵230V (包含管子，管夹，进油转接头，中套环和变压管夹) PDC-VP-OIL 豪华版真空泵用油 PDC-VPE-2 基础型真空泵230V (包含管子和管夹) PDC-VPE-OIL 基础型真空泵用油 PDC-32T 石英样片（适用于PDC-32G-2 基础型等离子清洗机） PDC-00Q石英样片（适用于PDC-002扩展型等离子清洗机） PDC-32Q 石英舱体（适用于PDC-32G-2 基础型等离子清洗机） PDC-191-420 可替换的派热克斯舱体Pyrex Chamber （适用于PDC-002扩展型等离子清洗机） PDC-191-105可替换的派热克斯舱体Pyrex Chamber （适用于PDC-32G-2扩展型等离子清洗机） PDC-191-111 可替换的前盖装置（适用于PDC-32G-2扩展型等离子清洗机） PDC-FLB 可替换的荧光灯泡 (适用于射频检测) 注：我们的设备配有115V和230V两种电压类型，缺省为230V电压，如果客户需要115V电压，请订购时特别注明。 等离子体表面处理仪的功能： 1.对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物 （如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等）进行超清洗。 2.改变某些材料表面的性能。 3.使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。 4.清除金属材料表面的氧化层。 5.对被清洗物进行消毒、杀菌。 等离子体表面处理仪的优点： 1.完全彻底地清除表面有机污染物。 2.清洗快速、操作简便、使用和维护成本极低。 3.非破坏性、对被清洗物表面光洁度无损害。 4.绿色环保、不使用化学溶剂、**次污染。 5.常温条件下清洗，被清洗物的温度变化微小。 6.能清洗各种几何形状、粗糙程度各异的表面。详细

Diener等离子表面处理设备 德**原装进口 德**Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是**上材料处理低温等离子体设备的市场和****者。Diener采用先进的集成化**开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz，以及代表等离子应用zuixianjin**的2.45GHz的等离子清洗机。 目前设备广泛应用于：等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等**域。其设备生产零件均选用其零件行业的zuiyou质产品，以**性能**稳定。 德**diener等离子表面处理设备特点： 等离子清洗机清洗效果好，效率**，应用范围广。 对清洗样品，没有任何材质、外观尺寸等要求 等离子清洗过程中，温升很小，基本可达到常温处理。 射频功率无极连续可调。 **效的特制电极，是产生均匀等离子体的**。 特制电极和托盘结构，可充分利用真空舱体内部空间，使处理效率**化，同时也可**样品可得到全面有效的清洗。 特有的过载、短路和过热保护电路，可**射频电源的稳定和安全。 设备整体模块化设计，安装与维护极为简单。 德**diener等离子表面处理设备的应用范围： 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。 清洗半导体元件、印刷线路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉积凝胶的基片。 **分子材料表面修饰。 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 煤、石棉灰化。 Diener Tetra30 Plasma 主要**参数： 1.*便捷的PC触摸屏控制，操作系统为Windows CE5.0(ARM) 2.*根据工艺要求不同，可设定功率、压强、气体流量与时间等参数 3.双路工作气体，气体流量通过数字式流量计（MFC）控制 4.*反应舱为不锈钢，宽305mm ×深625 mm×**300 mm，容积约为50L 5.**周波电流频率13.56MHz,功率0~300W 6.反射波自动调节，无须手工调节 7.电极材质为铝/不锈钢 8.运行模式为手动/自动 9.*可存储多套工艺程序，图表实时显示工艺过程 10.真空泵的排气能力为16m3/Hour，配有强制进气阀 11.*配有压力传感器，可根据工艺要求设定压力值 12.电源电压：400V /16A详细

Diener电镜专用等离子清洗机 用途：QQ截图20151231170425_1.jpg 主要用于除去透射电镜样品及样品杆上的污染，防止碳沉积以降低图像分辨率及对样品微区分析造成误判。还可以利用该仪器清洗各类光阑等电子显微镜配件。特别适用于场发射扫描电镜和场发射透射电镜。用这种低能**频等离子体清洗样品表面，不会改变样品元素成份和表面结构特征。 主要**参数： 1. 可对多孔碳膜进行**效且无破坏的清洗，提**样品在低电压下的成像能力，在化学微量分析时提**其精度 2. 无油真空系统：泵体部分由多级隔膜泵和超净音分子泵组成，在**真空度的同时，可在两分钟之内达到抽真空和放气过程，整个清洗过程在4分钟内可以完成 3. 可清洗标准透射电镜样品杆 4. 可清洗多孔碳膜 5. 清洗时间：普通污染样品小于2分钟，重度污染样品小于10分钟 6. 重现性：可以自动记录下同类产品清洗的条件，下次清同类产品时可以样条件进行 **规格： 控制方式 手动控制 发生器 40KHz,0~100W 腔体材质 **硼硅玻璃 腔体尺寸 Dia.90*L280mm 气路 单路 清清时间 旋钮式计时器0~99hour 压力控制范围 0~2mbar 外型尺寸 W345*D420*H211mm 电源电压 单相AC230V，16A 真空泵 排气速度4m3/hour,极限真空度0.5Pa 选配 发生器 2.45GHz和13.56MHz 腔体材质 石英玻璃 气路 双路 计时器 数字式计时器 减压阀 配专用气路接口 钢瓶 10L详细