分析非导电样品，如陶瓷，玻璃或漆涂层详细

GDA 150 HR适用于所有导电基体。甚**可以分析轻元素，如C，N和H（也可以选择O）。详细

了解如何借助 ELEMENT GD PLUS GD-MS 为固体中****纯度材料的直接分析定义新的标准。详细

该仪器配置辉光放电离子源，**分辨双聚焦磁质谱和**灵敏度的探测系统。有其独特的分析特点和广泛的应用范围。　　详细

AstruM**分辨率辉光放电质谱仪是分析**纯物质杂质元素的低级仪器，广泛的得到**纯金属，半导体，光伏产业，钢铁等等行业的认可，检测的极限可以达到固体含量的ppt水平，支持无标准分析，低温样品池设计，低熔点的金属。 **分辨率辉光放电质谱仪主要用于**纯材料的杂质分析，例如**纯Si，As， Ge， Cu， Ga， Nb， Ta， 稀土等等，还有陶瓷，玻璃，功能材料等等，是半导体行业，材料行业，冶金行业，等等不可缺少的仪器 **参数： 连续可调**分辨率 <1cps的背景 其他指标详询 主要特点： 连续可调**分辨率 低背景，包括低质量数端的背景 针状，片状样品 **灵敏度，低检测限连续 ​详细

Autoconcept GD90是**个专为**精度元素分析所设计的**分辨辉光放电质谱仪。此辉光放电质谱仪（GDMS）提供了固体金属与绝缘体的直接分析检测。它具有**宽的元素覆盖范围，可得到超过70种元素的有效数据，灵敏度**，轻元素重元素均可。 GDMS**使原子化（碎片化）过程与离子化过程分开进行，故而可容易的对ppb**ppt级别的痕量杂质进行测量。此法还使得GDMS**拥有**小的基体效应且无须特定参照材料。它可对金属与合金进行全扫描分析，可对半导体进行大量的测量分析，可对多层结构与镀层进行深度剖析。是包括金属、合金、半导体以及绝缘体（须配RF源）等**纯材料的生产与质量控制的理想工具。 主要特性： **分辨率，特别是对于有干扰离子存在的测定而言**重要。 广泛的元素涵盖范围，软件中包括70个元素相关的干扰离子数据。 由于原子化和离子化过程发生在不同区域，带来可忽略的基体效应。 低**亚ppb级的定量数据。 具有深度剖面同位素比值分析能力。 **少的样品制备过程。详细

直接分析**纯度固体材料的理想工具 GD-MS 辉光放电质谱仪是直接分析金属、半导体和陶瓷粉（例如 Al2O3 或 SiC）的理想工具。拥有出色的半定量功能，深度分析的应用所涉及的厚度从纳米到 100µm 不等。使用超灵敏且准确的 Thermo Scientific™ ELEMENT™ GD PLUS GD-MS 确保您的**纯度材料符合规格。 特色辉光放电质谱仪 ELEMENT GD PLUS GD 质谱仪 了解如何借助 ELEMENT GD PLUS GD-MS 为固体中****纯度材料的直接分析定义新的标准。GD-MS 以**少的校准和样品制备实现**样品通量和超低检出限，使得整个金属、陶瓷粉末和深度分析的应用成为 GD-MS 的主要应用**域。 非导体粉末可采用二次电极进行分析，并具备相同水平的灵敏度和数据质量。这使得 GD-MS 成为痕量金属分析的可靠标准方法。 了解辉光放电**的优势 **概述 辉光放电离子源性能 微秒级脉冲、**流速、大功率 相较静态 GD，该独特**具有出色的灵敏度和较低的多原子干扰，稳定性**、准确度极**并能缩短分析时间，在金属和合金检测方面的准确度为 ±30%（无需校准）。 双聚焦质谱仪 **离子传输率结合低背景噪声， 铸就了无可比拟的信噪比和低**亚 ppb 级的检出限。**质量分辨率实现**选择性和准确度。 十二数量级的自动检测系统 >拥有 12 个数量级线性动态范围的全自动检测器可在**次扫描中同时测定基体和超痕量元素。 **效易用的先进软件包 所有参数均由计算机控制，可实现全自动分析、数据评估以及与自动数据传输的 LIMS 连接性。详细

辉光放电质谱法作为**种固体样品直接分析** ,广泛应用于金属、半导体等材料的痕量和超痕量杂质分析。随着制样方法和离子源装置的改进 ,GDMS同样也能很好地应用于玻璃、陶瓷、氧化物粉末等非导体材料的成分分析。本分析仪器的特点：**、检测范围广，检测限从Sub-ppm-ppb，可直接分析各种形态固态样品，避免了可能出现的制样污染。并且可以测定元素周期表中所有元素详细