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OG-5000系列臭氧发生器是为满足半导体工业中对**浓度洁净臭氧的需求而设计的,可应用于化学气相沉积、原子层沉积、氧化物生长和湿台流程中。OG-5000系列设计紧凑,使用水冷系统,能够简便的整合进TAPI的臭氧系统控制器、臭氧泄露探测器、臭氧浓度监测器和臭氧破坏器中。该仪器经过验证的**使得它可广泛应用于半导体流程中。
特征
**纯度臭氧
**臭氧浓度
价格低
无耗材
设计紧凑,模块化
经过验证的**
应用
化学气相沉积 (CVD)
原子层沉积 (ALD)
氧化物生长
表面处理
灰化
颗粒清洁
光刻胶去除
其他