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021-64967050
应用**域
■在进行薄膜沉积之前先进行基片清洗。清除浮渣和稳定化处理光刻胶。超**真空度密封。
■清洗硅芯片，透镜，反光镜，太阳能面板，冷轧钢，惯性引导零件和 GaAs芯片
■清洁焊剂，混合电路以及平板LCD显示器
■蚀刻特氟隆，氟橡胶以及其它有机材料
■增强GaAs 和Si氧化物钝化表面
■增强玻璃的除气作用
■基片蓝膜去除
■增强塑料表面的镀膜的粘附性
■基片终测后墨迹清楚
■去除光刻胶
■平板显示器/液晶显示器
■去除光刻机台上的光刻胶残留物
■在电路板封装和打片之前清洗）
■光纤
■增强表面亲水特性
■为生物科学应用做清洗和消毒
■光学透镜
■其它应用
